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2016全国表面分析科学与技术应用学术会议在昆明理工大学召开

发布时间:2016/8/29 11:48:49  作者:  来源:

  8月10-12日, 2016年全国表面分析科学与技术应用学术会议在昆明理工大学召开,来自清华大学、北京大学、中国科学技术大学、北京师范大学、昆明理工大学、中国科学院半导体研究所及各仪器厂家等51家单位的100余名从事表面分析技术研究与应用的专家学者出席了本次会议。会议由高校分析测试中心研究会、全国微束分析标准化技术委员会表面分析分技术委员会、北京分析测试协会表面分析专业委员会主办,昆明理工大学分析测试研究中心、国家大型科学仪器中心-北京电子能谱中心、昆明红源会展有限公司协办。

  表面分析领域知名专家学者,如中国科学院半导体研究所的赵丽霞、北京师范大学吴正龙、清华大学李展平、台湾中央研究院薛景中、汕头大学王江涌、清华大学姚文清、昆明理工大学蔡金明等分别做精彩报告,介绍了表面分析技术及其在各领域的应用。

  其中,中国科学院半导体研究所的赵丽霞和昆明理工大学的蔡金明主要介绍了表面分析技术在半导体行业中的应用。赵丽霞做的题为“表面分析技术在氮化物发光材料器件及失效机理研究中的应用”的大会报告,报告中结合其最新研究进展介绍了氮化物发光器件失效机理的逆向测试分析方法,以及各种表面分析技术在氮化物发光器件及失效机理研究中的应用。昆明理工大学蔡金明做了题为“结构原子级精确的石墨烯纳米结构的制备与表征”大会报告。他采用具有功能基团的有机分子前驱体脱去功能基团的方法进一步制备了原子级精确的石墨烯,并通过扫描隧道显微镜、角分辨光电子能谱、反射差分光谱等对其形貌和电化学性质进行研究,为将石墨烯应用到半导体器件中提供了一条新的方法。

  令人高兴地是,本次会议上除表面分析技术表征半导体材料或器件的应用外,还出现了一些新的领域研究报告,如昆明理工大学李绍元、邓久帅的“纳米硅基功能材料制备及其在重金属检测中的应用研究”、“锌矿物浮选表面活化机制的XPS研究”报告。李绍元尝试将纳米材料应用于重金属离子的检测并采用XPS对纳米材料进行了表征。邓久帅利用XPS分析了酸性和碱性条件下闪锌矿表面铜活化及菱锌矿表面强化硫化的机理。

  除了主要的表面分析技术手段XPS、AES、TOF-SIMS外,此次会议中也对一些其他分析技术进行了研讨,如扫描探针显微镜(STM)、椭偏光谱、辉光放电光谱等。如昆明理工大学蔡金明在其研究中利用了扫描隧道显微镜技术。中国科学技术大学张增明在报告“VO2薄膜的变温光学常数及能带研究”中,主要应用椭偏光谱仪。堀场(中国)贸易有限公司武艳红所做的报告“辉光放电光谱仪在表面分析中的应用”主要介绍了辉光放电光谱仪。

  表面分析仪器的主要供应商ULVAC-PHI(高德英特代理商)、岛津、赛默飞、堀场等也参加了此次会议,分别在会议中就其公司的最新产品和技术作报告。

  会议的深入研讨将会有效促进表面分析领域中的基础研究与应用技术的紧密结合。

  高校分析测试中心研究会副理事长朱永法、董林和秘书处副秘书长冯玉红出席了会议。

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  大会主席朱永法教授

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  大会现场

与会代表集体合影

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